n \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ t са показани в таблица 1. Тези два екземпляра са изградени във формата на куб с 45 × 45 × 45 mm, като използвате EOS M290 SLM машина (EOS, Robert, Krailling, Bavaria, Германия) в a Защитна AR атмосфера с помощта на Nalloyed прахове и същите параметри на обработка. Проведохме стандартна топлинна обработка както за екземплярите на НС, така и за HX. Разтворната топлинна обработка (ST) се извършва при 1177 ° С в продължение на 2 часа, последвано от въздушно охлаждане до стайна температураn \\ _ \\ _ \\ t куб в редица плочи с дебелина 3,1 mm; От тези плочи, пробните проби от пълзене бяха изрязани с помощта на електронна машина за рязане на тел. Размерите на всеки образец са 19.6 × 2.8 × 3.0 mm. Проведохме теста за пълзене под 900 ◦C N80 MPA условия. Пробите бяха полирани с помощта на SIC Emery хартията до степен 1200, последвано от диамантена паста до колоиден силициев диоксид (0.5 μm), като се използва Stropers (балерип, Дания) автоматична машина за полиране. Всички екземпляри след това се промиват с етанол в ултразвукова баня в продължение на 10 минути. Ние гравирахме образците с 20% фосфорна киселина N 80% воден разтвор, за да наблюдават границите на стопената басейна. Микроструктурното наблюдение се провежда с оптичен микроскоп (OM; Olympus Corp. Tokyo, Япония), сканиращ електронен микроскоп (SEM; Hitachi, Ltd., Tokyo, Япония), Energy Ndispersive Spectroscopy (EDS) (S \\ t N3700N тип EDS \\ t Оборудване, произведено от Horiba Seisakusho Co., Ltd., Kyoto, Япония) и Емисионна електронна електронна микроскопия (FEM NSEM) (JSM N7100, Jeol, Tokyo, Япония), прикрепени към EDS (Edaxametex 9424). Image J софтуер (64 Nbit Java 1.8.0_172) е използван за анализиране на фракцията на пукнатината и измерванията на порьозност. N \\ _ \\ _ \\ tn \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ даденn Оптичен микроструктури на екземпляри в състоянието на NBuilt. Всички са произведени с помощта на същите параметри на обработка. HX Na екземпляр проявява повече пукнатини от HX (Фигура 1А), тъй като екземплярът HX на HX съдържа допълнителни елементи на yttrium (Y), които HX екземплярът нямаше. Забележителната точка е, че всички пукнатини са успоредни на посоката на сградата (BD) (Фигура 1В). Фракциите на пукнатини за екземплярите HX и HX са съответно 1% и 5%. \\ T \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ t като прилив. При по-ниско увеличение всички екземпляри показват стопени граници на басейна и конструкции за втвърдяване, като граници на зърно и дендрити (Фигура 2А, В за НХ и Фигура 2С, D за НС). Фигура 2В показва пукнатини при по-голямо увеличение в HX образеца. И в двата образеца, пукнатините бяха оформени по границата на зърната и се появяват в междуредитични региони.n \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ t Анализът на EDS разкрива SIC карбид и W6C образуване в HX образеца (фигура 3а). В образеца на НХ на НСР, картографирането при пукнатината показва образуването на yc (фигура 3Ь)n \\ _ \\ _ \\ _ \\ _ \\ t на HX Na NBuilt образец, който показва съществуването на малък у оксид (Yttria) и Si оксид (силициев диоксид) вътре в зърното. Дифракционната дифракционна картина на електронната безалка (EBSD) кристалографска ориентационна карти на двата образеца в състоянието на NBuilt (Фигура 5) разкриват колонни зърна, ориентирани почти успоредно на посоката на сградата. В екземпляра HX, някои зърна са ориентирани в посоката, а някои са в посоката (Фигура 5А). От друга страна, зърната в HX на екземплярата са малко по-фини и най-вече ориентирани в посоката (фигура 5Ь) \\ t,n \\ _ \\ _ \\ tn \\ _ \\ _ \\ t